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三星新版1b nm DRAM:能否破解良率與性能雙重難題?

   時間:2025-01-21 18:26 來源:ITBEAR作者:陸辰風

近期,據韓國媒體ETNews報道,三星電子針對其12nm級別DRAM內存產品遇到的良率及性能挑戰,已經制定了應對策略。報道透露,三星在2024年末決定在優化當前1b nm工藝的基礎上,重新設計一款全新的1b nm DRAM。

這款新版DRAM工藝項目被命名為D1B-P(P代表Prime),其重點在于提升能效和散熱性能。值得注意的是,這一命名邏輯與三星之前推出的第六代V-NAND改進版制程V6P保持一致。

三星電子此前曾宣布,在2022年12月和2023年5月,其12nm級別的DDR5 DRAM已經完成了開發與批量生產。然而,這一代工藝并未能在LPDDR5x等關鍵領域取得預期的成功。甚至因此,三星的設備解決方案(DS)部門失去了為移動體驗(MX)部門的Galaxy S25系列手機初期供應內存的首要地位。

在決定啟動D1B-P項目時,三星電子的12nm級別DRAM工藝的良率僅為60%左右,遠低于業界普遍認為的大規模量產所需的80%至90%的良率水平。

為了應對這一挑戰,三星在2024年底緊急訂購了D1B-P項目所需的設備。據預計,這一新版制程有望在2025年內實現量產,而最早的產品推出時間可能會在今年第二季度至第三季度之間。

 
 
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