莫斯科市長謝爾蓋·索比亞寧近日宣布了一項重大科技突破：位于該市的澤列諾格勒納米技術中心已經成功研制出俄羅斯首臺350納米光刻機，并即將進入批量生產的嶄新階段。

回顧過去，早在2023年，俄羅斯便雄心勃勃地提出了光刻機自主研發計劃，目標是在2024年實現350納米光刻機的國產化，并預計在2026年更進一步，完成130納米光刻機的研發工作。這一宏偉藍圖涉及莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡及新西伯利亞等多個地區的技術協同與工廠合作。

2024年5月，俄羅斯再次傳來好消息，宣布首臺國產光刻機已經組裝完成并進入測試階段。而此次，謝爾蓋·索比亞寧不僅證實了這一消息，還首次向公眾展示了這臺具有里程碑意義的350納米光刻機的實物照片。

索比亞寧市長自豪地指出，全球范圍內能夠制造此類半導體關鍵設備的國家屈指可數，而俄羅斯已經成功躋身其中。這一成就不僅標志著俄羅斯微電子產業本土化進程的重大推進，也彰顯了該國在科技自主道路上邁出的堅實步伐。

據了解，俄羅斯這款光刻機在技術上具有顯著的創新性。它摒棄了傳統的汞燈光源，轉而采用固態激光器，這一設計不僅提高了功率和效能，還大大延長了使用壽命，并實現了光譜的集中優化。該光刻機的工作區域廣闊，達到了22×22毫米，能夠支持最大直徑為200毫米的晶圓制造。

值得注意的是，我國在光刻機技術領域同樣取得了不俗的進展。中科院研發的深紫外（DUV）激光光源技術同樣基于固態設計，并有望在未來推進至更先進的3納米節點。然而，目前該技術仍面臨功率和頻率方面的挑戰。

盡管350納米工藝在當前全球科技水平中顯得相對落后，但它仍然能夠滿足汽車、能源、通信等多個領域的基礎需求。俄羅斯在光刻機技術上的不斷突破，不僅為這些領域提供了有力的支持，也為該國持續推進更先進工藝的研發奠定了堅實的基礎。

除了350納米光刻機的成功研制外，俄羅斯還在積極推進130納米光刻機的研發工作，并有望在明年完成。俄羅斯已經掌握了65納米工藝制造技術，但目前仍依賴進口設備。為了全面實現技術的國產化，俄羅斯正在積極籌備，努力在微電子產業領域實現更大的突破。