TechInsights最近的分析揭示，ASML的EUV光刻機功耗驚人。據悉，0.33 NA型號的功耗已達1170千瓦，而更先進的0.55 NA（High NA）型號預計將飆升至1400千瓦，這相當于約1000臺滿載電火鍋的能耗。

隨著EUV技術的普及，其對能源的需求也日益凸顯。據統計，目前有31家晶圓廠采用這項技術，預計到2030年將激增至59家。而EUV光刻設備的數量，預計將增長超過一倍。

這一增長趨勢意味著，到2030年，全球EUV光刻機的電力消耗將達到驚人的6100吉瓦時。這一數字與盧森堡和柬埔寨兩國2020年的總用電量相當。值得注意的是，在半導體晶圓廠中，EUV光刻機的用電量僅占總用電量的11%左右。其他工藝設備和HVAC系統同樣產生了巨大的能源消耗。

當前，半導體行業正面臨重大抉擇。一方面，EUV光刻技術在推動創新和滿足先進芯片需求方面發揮著關鍵作用；另一方面，該技術帶來的能源負擔也不容忽視。

分析機構指出，隨著技術的不斷進步和市場的持續擴張，半導體行業需要在保持創新的同時，積極探索節能減排的解決方案，以實現可持續發展。